光催化淨化材料的去甲苯淨化性能主要是在光照條件下進行，為了判斷其淨化性能，在實驗室測試階段，需要結合淨化材料甲苯去除光催化艙來判斷。那麼，淨化材料去甲苯的原理是怎麼樣的呢？下麵我們來看看。
實驗設備：環儀儀器 淨化材料甲苯去除光催化艙
滿足標準：GB/T 42265-2022 光催化材料空氣淨化性能測試方法 甲苯的去除
.jpg)
淨化材料甲苯去除原理：
a)半導體的電子吸收大於其帶隙的光能發生電子帶間躍遷。
b)激發電子遷移至導帶，價帶產生空穴，形成“電子-空穴”對。
c)遷移到半導體表麵的電子-空穴對分別進行氧化還原反應。
d)荷電載流子遷移的同時發生電子與空穴的複合(湮滅)。
e)被吸附在半導體表麵的有機物被夾帶空穴氧化，同時，未發生複合的電子很快與半導體表麵的O2發生反應生成超氧陰離子·O2。
f)超氧陰離子·02與空氣中水反應生成H2O2，產生對光催化氧化起決定作用的羥基自由基·OH，進而與有機汙染物反應並使之礦化。
光催化反應過程如下:
有機物+·OH→CO2+H2O+其他產物
